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          半導體廢水處理設備

          時間:2021-03-26 15:42:17 來源:互聯網

            一、半導體廢水處理設備簡介:
           
            伴隨著電子器件信息技術產業的迅速發展趨勢,其重要原料光敏劑的市場的需求越來越大。光敏劑是光刻技術商品生產制造中重要的關鍵原材料之一,生產制造的光刻技術廣泛運用于光學信息技術產業的微細圖型路線的生產加工制做,是微細生產加工技術性的至關重要原材料。

          半導體廢水處理設備
           
            半導體器件污水來源于,主要是光刻技術和細致有機化學全產業鏈相關產品,污水中關鍵空氣污染物為鹽份、COD、苯、二甲苯、原油類、高錳酸鹽指數等空氣污染物,分成濃度較高的有機化學污水、較低濃度的有機化學污水、高鹽污水等。
           
            針對濃度較高的有機化學污水先開展預備處理方能開展事后生物化學解決,高鹽污水需開展除鹽解決后才能進到事后生物化學解決。
           
            針對較低濃度的污水可與歷經預備處理后的濃度較高的污水和高含鹽量污水混和后開展生物化學解決。歷經生物化學解決后的污水還需開展深層解決合格后才能排污。

          半導體廢水處理設備
           

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            因而,半導體器件污水處理廠的整體加工工藝為預處+UASB+A/O+空氣氧化沉定。
           
            二、半導體廢水處理設備優勢:
           
            1、應用除氣膜系統軟件解決水里的高錳酸鹽指數,耗能極低,僅有基本的吹脫法加工工藝的5%,占地僅有30%。
           
            2、選用一體化的石灰粉配液、加藥設備,以合理減少人力成本,完成自動化技術運行;
           
            3、選用高效率污泥處理、榨取式帶式壓濾機,合理減少淤泥中的含水量,降低淤泥的受托花費,完成淤泥資源化。

          半導體廢水處理設備
           
            三、半導體廢水處理設備特性:
           
            1、可大大減少廢水治理站基本建設項目投資成本費和運作成本費。
           
            2、因為改性材料膜分離技術收購系統軟件出水出水水體可做到工業生產自來水標準,導電率150us/cm上下,因而,每日生產廠家所應用飲用水將降低60%之上,大幅度降低飲用水水電費及原化水系統軟件運作花費,另外可節省60%之上污水排污費用??纱蟠鬁p少廢水治理站基本建設項目投資成本費和運作成本費。
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